項目概況 太原理工大學(xué)集成電路學(xué)院半導(dǎo)體微納加工平臺設(shè)備項目的潛在投標(biāo)人應(yīng)在山西政府采購平臺（://.../-/#/）上獲取招標(biāo)文件，并于年月日時分（北京時間）前在“山西政府采購平臺”投標(biāo)人端提交投標(biāo)文件。 一、項目基本情況.項目編號：（--）.項目名稱：太原理工大學(xué)集成電路學(xué)院半導(dǎo)體微納加工平臺設(shè)備.采購計劃文號：----.采購方式：公開招標(biāo).預(yù)算金額：.元.最高限價：.元.采購需求：本次招標(biāo)共包，參與投標(biāo)的投標(biāo)人應(yīng)按照招標(biāo)文件要求按包編制投標(biāo)文件，提交的投標(biāo)文件應(yīng)實質(zhì)性上響應(yīng)本招標(biāo)文件的要求。序號標(biāo)的名稱數(shù)量單位簡要技術(shù)需求備注*反應(yīng)離子刻蝕機(jī)臺反應(yīng)離子刻蝕機(jī)常用于刻蝕電介質(zhì)等化學(xué)鍵能較大的材料，是一種廣泛用于芯片制造刻蝕的工藝，能夠以極高的精度和對材料的最小損傷來刻蝕晶圓材料。主要用途：主要應(yīng)用再微電機(jī)系統(tǒng)（）光電子器件納米材料研究等領(lǐng)域，用來進(jìn)行介質(zhì)，有機(jī)物材料的刻蝕。主要技術(shù)指標(biāo)：刻蝕速率：≥/； 刻蝕角度：°±°；選擇比：&;:() ；刻蝕均一性：%。臺式高質(zhì)量金屬\有機(jī)物熱蒸發(fā)鍍膜平臺套應(yīng)用范圍非常廣泛，幾乎涵蓋了現(xiàn)代工業(yè)和日常生活的各個方面。臺式高質(zhì)量金屬\有機(jī)物熱蒸發(fā)鍍膜平臺在集成電路制造中，真空鍍膜設(shè)備用于制造薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。我課題組在開展高性能薄膜制備，該設(shè)備用于制備：、、 等低熔點金屬或有機(jī)物。廣泛應(yīng)用于物理、生物、化學(xué)、材料、電子等領(lǐng)域，可沉積單層膜/多層膜。熱蒸鍍技術(shù)是工業(yè)鍍膜的主要技術(shù)之一，易于科研成果轉(zhuǎn)化，是新技術(shù)向工業(yè)領(lǐng)域推廣的最經(jīng)濟(jì)有效的方法之一。是否允許代理商參加是是否接受聯(lián)合體參加否是否允許合同分包否合同履約期限自合同簽訂之日起個工作日內(nèi)完成所供貨物的運輸、安裝、調(diào)試，達(dá)到技術(shù)驗收標(biāo)準(zhǔn)；對所供貨物的免費配套服務(wù)期限按合同條款執(zhí)行。履約地點山西省晉中市....